ZXGP-T5全譜直讀光譜儀
用于冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析
參考標(biāo)準(zhǔn):
●高性能光學(xué)系統(tǒng),光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室,實現(xiàn)光路直通,有效的降低光路損耗
●自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作
●真空室一體化,獨特的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小,抽真空時間僅普通光譜儀的1/2
ZXGP-T5全譜直讀光譜儀采用國際標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計和制造工藝技術(shù),應(yīng)用了日本濱松公司最先進(jìn)的CMOS信號采集元件,每塊CMOS都可以單獨設(shè)值火花個數(shù),與國際光譜儀一流技術(shù)同步,采用真空光室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限,整機設(shè)計合理,操作簡單易學(xué),具有數(shù)據(jù)精準(zhǔn),長期穩(wěn)定性好等優(yōu)點。
1. 高性能光學(xué)系統(tǒng),光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室,實現(xiàn)光路直通,有效的降低光路損耗;采用高精度的CMOS元件可精確測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;測定結(jié)果精準(zhǔn),重復(fù)性及長期穩(wěn)定性極佳。
2. 自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;儀器自動識別特定譜線與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定。
3. 插拔式透鏡設(shè)計,真空光學(xué)系統(tǒng)采用獨特的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作,光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu),日常清洗維護(hù)方便快捷。
4. 真空室一體化,獨特的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小,抽真空時間僅普通光譜儀的1/2;真空室一體化設(shè)計及高精密的加工,使真空保持的更加持久。
5. 真空防返油技術(shù),多級隔離的真空防返油技術(shù),采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時真空光室與真空完全隔離;中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進(jìn)入真空室,保障CMOS檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。
6. 開放式激發(fā)臺,開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設(shè)計,以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析;配合使用小樣品夾具,線材最低分析可達(dá)到3mm。
7. 噴射電極技術(shù),采用國際最先進(jìn)的噴射電極技術(shù),使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度;配上獨特氬氣氣路設(shè)計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。
8. 集成氣路模塊,氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護(hù)設(shè)計,替代電磁閥和流量計,電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。
9. 數(shù)字化激發(fā)光源,數(shù)字激發(fā)光源,采用國際最為先進(jìn)的等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品;全數(shù)字激發(fā)脈沖,確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出;可任意調(diào)節(jié)光源的各項參數(shù),滿足各種不同材料的激發(fā)要求。
10. 高速數(shù)據(jù)采集,儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。
11. 以太數(shù)據(jù)傳輸,計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時計算機和打印機完全外置,方便升級和更換;可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。
12. 預(yù)制工作曲線,備有不同材質(zhì)和牌號的標(biāo)樣庫,儀器出廠時工廠預(yù)制工作曲線,方便安裝調(diào)試和及時投入生產(chǎn);根據(jù)元素和材質(zhì)對應(yīng)的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調(diào)節(jié)好,根據(jù)分析程序可自動選擇最優(yōu)測試條件;技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍(并可根據(jù)用戶提供標(biāo)樣免費繪制或延長工作曲線)。
13. 分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析;針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及測量時間,使儀器用最短時間達(dá)到最優(yōu)的分析效果。
14. 多基體分析,光路設(shè)計采用羅蘭圓結(jié)構(gòu),檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設(shè)施,即可實現(xiàn)多基體分析;便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素(無硬件成本)。
軟件中英文系統(tǒng),儀器操作軟件完全兼容于Windows7/8/10系統(tǒng);軟件操作簡單,即使沒有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過簡單的知識培訓(xùn)即可上手使用。
技術(shù)參數(shù) | 詳細(xì)參數(shù) |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。 |
可檢測基體 | Fe,Al,Cu,Ni,Mg,Co,Zn,Pb,Ti |
光學(xué)系統(tǒng) | 帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
波長范圍 | 140~680nm |
光柵焦距 | 401mm |
探測器 | 高性能CMOS陣列 |
光源類型 | 數(shù)字光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS) |
放電頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 最大400A |
工作電源 | AC220V 50/60Hz 1200W |
儀器尺寸 | 780*565*360mm |
儀器重量 | 約78kg |
檢測時間 | 依據(jù)樣品類型而定,一般20S左右 |
電極類型 | 鎢材噴射電極 |
分析間隙 | 4mm |
其他功能 | 真空,溫度,軟件自動控壓力,通訊監(jiān)測 |
環(huán)境溫度 | -10℃~+40℃ |
外形尺寸 | 180mm×300mm×400mm |
相對濕度 | RH≤85%(25℃) |
項目 | 指標(biāo) |
檢測基體 | Fe基體合金的成分測量 |
檢測時間 | 試樣品類型而定,一般30s左右 |
光學(xué)系統(tǒng) | 帕型-龍格 |
波長范圍 | 140~680nm |
工作電源 | (220±20)V AC,(50±1)Hz,保護(hù)性接地的單相電源 |
工作溫度 | (10~30)℃ |
存儲溫度 | (0~45)℃ |
工作濕度 | 20%~80% |
氬氣純度要求 | 99.999% |
氬氣進(jìn)口壓力 | 0.5MPa |
氬氣流量 | 激發(fā)流量約3.5L/min,維持流量約0.4L/min,待機流量約0.1L/min, |
尺寸 | 長726mm,寬565mm,高380mm |
重量 | 約78kg |
激發(fā)最大功率 | 400VA |
待機平均功率 | 100VA |
光源類型 | 脈沖合成全數(shù)字光源(可編程脈沖全數(shù)字光源) |
放電頻率 | 最高1000 Hz |
放電電流 | 最大400A |
引燃點火脈沖 | 1~14kV |
火花激發(fā)脈沖 | 20~230V |
電弧激發(fā)脈沖 | 20~60V |
激發(fā)臺孔徑 | 12mm |
注:了解更多國電中星產(chǎn)品信息請進(jìn)入 產(chǎn)品中心 。服務(wù)熱線:400-0828-027
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